5月课程 | ANSYS ZEMAX光学系统设计与性能分析培训

  • 作者: 小编
  • 日期: 2023-05-08 17:19:30
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简要介绍如何使用Zemax进行光学系统设计,例如非序列模式下的照明系统设计与序列模式下的成像系统设计;在成像系统里中,了解像差类型以及像差对成像系统的影响,并通过评价函数来优化系统,实现系统最佳成像;了解分析成像质量的工具,例如点列图、波前图、MTF、像差分析等;演示如何使用Zemax STAR模块实现系统STOP分析(结构、热、光学、系统性能分析);通过ZOS-API实现自动化工作流。





一、培训目标


1.通过本次培训学习,学员可基本掌握通过ANSYS Zemax设计照明系统与成像系统。初步了解像差理论与像差类型,以及如何改善像差以减小像差对光学系统的影响。能自主分析系统的性能,作出评估


2.了解Zemax STAR模块的功能以及FEA有限元数据导入后对光学系统镜片表面形变和刚体移动的影响结果;


3.课程最后环节通过问题答疑和探讨的形式帮助学员更好地把Zemax中的设计分析工具应用于实际产品的开发与验证之中。





二、培训信息


主题:ANSYS ZEMAX光学系统设计与性能分析培训

时间:5月26日(周五)9:30-17:00

费用:1100元/人(前3名免费报名)

地点:广州市天河区高唐路233号时代E-PARK6栋802、803



三、讲师简介

 PROFILE

王露虹

ANSYS光学工程师

阳普科技金牌讲师




四、培训内容


1

Zemax设计界面简要介绍

2

非序列模式设计

3

初级像差理论与像差分析

4

序列模式设计

5

评价函数

6

镜头成像质量分析

7

STAR模块与STOP分析

8

ZOS-API自动化工作流




五、适用范围


智能消费电子、照明应用、车载镜头、航空航天、工业相机、激光器设计、AR&VR等领域的光学设计者。




六、报名方式


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