本次培训课简要讲述了光学设计原理以及设计流程，例如设计某一镜头的流程：确定设计指标、搭建镜头初始结构、多重结构实现变焦(变焦镜头)、优化、分析等。了解设计流程后，我们将借助成像质量分析工具(点列图、MTF、波前图、赛德尔系数、RI等)来分析成像质量。通过Zemax分析存在杂散光(Flare与Ghost)的光学系统，并给出消除或抑制杂散光的方法。
除此之外，我们将了解到如何使用zemax来计算光纤的耦合效率、大功率激光器的STOP分析、HUD的系统性能分析等内容。
一、培训目标
1.学员可基本掌握光学系统设计与分析流程，了解光学设计中的概念名词与结果分析图的含义。
2.镜头在成像过程中，鬼影与眩光的存在影响成像质量，通过本次培训课我们将学会通过Zemax来分析杂散光，并了解如何消除或抑制杂散光的方法。
3.学到如何通过Zemax对光纤的耦合效率计算、大功率激光器的STOP(结构、热、光学、性能)分析、HUD系统的性能分析。
4.课程最后环节通过问题答疑和探讨的形式帮助学员更好地把Zemax中的设计分析工具应用于实际产品的开发与验证之中。
二、培训信息
主题：ANSYS ZEMAX光学设计与分析培训
时间：8月25日（周五）9:30-17:00
费用：1100元/人（前3位免费报名）
地点：广州市天河区高唐路233号时代E-PARK6栋802、803
三、讲师简介
PROFILE
王露虹
ANSYS光学工程师
阳普科技金牌讲师
四、培训内容
1 | 光学设计原理及设计流程 |
2 | 成像质量分析工具 |
3 | 消除或抑制杂散光的方法介绍 |
4 | 光纤耦合效率的计算与优化 |
5 | 大功率激光器的STOP分析 |
6 | 成像镜头的STOP分析 |
7 | HUD的系统性能分析 |
8 | 问题答疑与技术探讨 |
五、适用范围
手机镜头、车载镜头、工业镜头、激光器、光通讯等领域光学设计者。
六、报名方式
